مروری بر آخرین طراحی لیزرهای اکسایمر

هدف این پایان نامه طراحی عملی یک لیزر اکسایمر با دمش تخلیه الکتریکی سریع مجهز به سیستم گردش گاز بوده است با استفاده از این سیستم لیزری، عملکرد کلیه لیزرهای اکسایمر هالوژن-گاز نادر (rgh) امکان پذیر خواهد بود. این سیستم لیزری در فشار در فشار چندین اتمسفر کار می کند. تخلیه الکتریکلی در این سیستم به روش عرضی و بسیار سریع انجام می شود. سیستم پیش یونش مورد استفاده، پیش یونش متداول uv است . ولتاژ شارژ لیزر حدود 15-20kv خواهد بود که از طریق یک منبع تغذیه ولتاژ بالا dc تامین می گردد. کلید زنی سریع این لیزرتوسط یک سوئچ تایراترون انجام می شود. زمان خیزش جریان در ناحیه تخلیه در حدود چند نانو ثانیه و پهنای تپ لیزر (fwhm) حدود بیسست نانو ثانیه پیش بینی می شود. ظرفیت کل خازنهای بانک سیستم 40nf و انرژی تزریق شده به محیط فعال لیزر در هر تپ جریان حدود 15-25j خواهد بود. بازدهی کل لیزر در حدود (0.5-1) درصد و توان متوسط آن در آهنگ تکرار تپ 50hz و انرژی تپ 100-200mj، در حدود 5-10w برآورد می شود. قله توان تپ لیزر در حدود 5-1c مگاوات خواهد بود. مخلوط گاز لیزر به عنوان نمونه برای xexl با طول موج 308nm، شامل یک نور 15,hcl تور xe در فشار چند اتمسفر گاز ne است . برای لیزر xef با طول موج 352nm از مخلوط گاز xe:f2:he (5:0.2:1000) و برای لیزر krf با طول موج 248nm از مخلوط گاز kr:f2:ne:he (15:0.6:60:170) استفاده می شود. برای رسیدن به این منطور بررسی وسیعی روی طرحهای مختلف لیزرهای اکسایمر انجام گرفت که خلاصه این مطالعات در این پایان نامه گردآوری شده است . برخی از کاربردهای این لیزر عبارتند از: دمش لیزرهای مایع رنگی، اسپکتروسکوپی، فرایندهای فوتوشیمیایی، تحقیقات راه دور جوی، میکروماشینکاری، پردازش قطعات نیمه رسانا، تولید لایه های نازک ، تعمیر مدارهای الکترونیکی میکرنی، لیتوگرافی، علامت گذاری ظریف لیزری بر روی سرامیکها، شیشه، پلاستیک و فلز، و بالاخره کاربردهای پزشکی لیزر از جمله در چشم پزشکی، آنژیوپلاستی و جراحی های میکرنی.